Highly textured AlN films deposited by pulsed DC magnetron sputtering with optimized process parameters › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.ssc.2024.115821
Конечная издательская версия

Язык оригинала	английский
Номер статьи	115821
Журнал	Solid State Communications
Том	397
DOI	https://doi.org/10.1016/j.ssc.2024.115821
Состояние	Опубликовано - 1 мар. 2025

Предметные области OECD FOS+WOS

1.03.UK ФИЗИКА КОНДЕНСИРОВАННОГО СОСТОЯНИЯ

Области исследований

AlN, Hexagonal structure, Magnetron sputtering, Thin films

ID: 62800960