The Influence of Argon Cluster Ion Bombardment on the Characteristics of AlN Films on Glass-Ceramics and Si Substrates › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.3390/nano12040670
Конечная издательская версия

Язык оригинала	английский
Номер статьи	670
Журнал	Nanomaterials
Том	12
Номер выпуска	4
DOI	https://doi.org/10.3390/nano12040670
Состояние	Опубликовано - 1 февр. 2022

Предметные области OECD FOS+WOS

1.04.DY ХИМИЯ, МУЛЬТИДИСЦИПЛИНАРНАЯ
2.05.PM МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ, МУЛЬТИДИСЦИПЛИНАРНОЕ
2.10.NS НАНОНАУКА И НАНОТЕХНОЛОГИИ
1.03.UB ФИЗИКА, ПРИКЛАДНАЯ

ID: 35518899