Single-shot selective femtosecond and picosecond infrared laser crystallization of an amorphous Ge/Si multilayer stack › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2023.109161
Конечная издательская версия

V. A. Volodin
Yuzhu Cheng
A. V. Bulgakov
Y. Levy
J. Beránek
S. S. Nagisetty
M. Zukerstein
A. A. Popov
N. M. Bulgakova

Язык оригинала	английский
Номер статьи	109161
Страницы (с-по)	10
Журнал	Optics and Laser Technology
Том	161
DOI	https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2023.109161
Состояние	Опубликовано - июн. 2023

Предметные области OECD FOS+WOS

2.02 ЭЛЕКТРОТЕХНИКА, ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА, ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ
1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ

ID: 49082613