Nanosized Potential Fluctuations in SiOx Synthesized by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S1063783419120370
Конечная издательская версия

T. V. Perevalov
V. A. Volodin
Yu. N. Novikov
G. N. Kamaev
V. A. Gritsenko
I. P. Prosvirin

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	2560-2568
Число страниц	9
Журнал	Physics of the Solid State
Том	61
Номер выпуска	12
DOI	https://doi.org/10.1134/S1063783419120370
Состояние	Опубликовано - дек. 2019

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 23719858