Efficient nanopatterning of Ge surface induced by oblique argon cluster ion beam › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.matlet.2024.136710
Конечная издательская версия
Эмбарго завершается: 01.06.2026

Язык оригинала	английский
Номер статьи	136710
Число страниц	4
Журнал	Materials Letters
Том	368
DOI	https://doi.org/10.1016/j.matlet.2024.136710
Состояние	Опубликовано - 1 авг. 2024

Предметные области OECD FOS+WOS

2.05.PM МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ, МУЛЬТИДИСЦИПЛИНАРНОЕ
1.03.UB ФИЗИКА, ПРИКЛАДНАЯ

ID: 60095384