Переведенное названиеDeposition of AlN/Al on Si by pulsed magnetron sputtering for the active layer of BAW resonators
Язык оригиналарусский
Номер статьи7
Страницы (с-по)75-83
Число страниц9
ЖурналТехника радиосвязи
Номер выпуска1 (60)
СостояниеОпубликовано - 2024

    Предметные области OECD FOS+WOS

  • 2.02 ЭЛЕКТРОТЕХНИКА, ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА, ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ

    Области исследований

  • НИТРИД АЛЮМИНИЯ, ALN/AL, МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, СТРУКТУРА МАТЕРИАЛОВ, ПЬЕЗОАКТИВНЫЕ МАТЕРИАЛЫ

ID: 61325130