1. Atomic Structure and Optical Properties of CaSi2 Layers Grown on CaF2/Si Substrates

    Zinovyev, V. A., Kacyuba, A. V., Volodin, V. A., Zinovieva, A. F., Cherkova, S. G., Smagina, Z. V., Dvurechenskii, A. V., Krupin, A. Y., Borodavchenko, O. M., Zhivulko, V. D. & Mudryi, A. V., окт. 2021, в: Semiconductors. 55, 10, стр. 808-811 4 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  2. Atomic Rearrangements and Photoemission Processes at a p-GaN(Cs)–Vacuum Interface

    Bakin, V. V., Kosolobov, S. N., Rozhkov, S. A., Scheibler, H. E. & Terekhov, A. S., 1 авг. 2018, в: JETP Letters. 108, 3, стр. 180-184 5 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  3. Atomic Processes on the Silicon Surface

    Latyshev, A. V., Fedina, L. I., Kosolobov, S. S., Sitnikov, S. V., Rogilo, D. I., Rodyakina, E. E., Nasimov, D. A., Sheglov, D. V. & Aseev, A. L., 1 янв. 2017, Advances in Semiconductor Nanostructures: Growth, Characterization, Properties and Applications. Latyshev, AV., Dvurechenskii, AV. & Aseev, AL. (ред.). Elsevier Science Publishing Company, Inc., стр. 189-221 33 стр. (Advances in Semiconductor Nanostructures: Growth, Characterization, Properties and Applications).

    Результаты исследований: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференцийглава/разделнаучнаяРецензирование

  4. Atomic Force Microscopy Local Oxidation of GeO Thin Films

    Astankova, K. N., Kozhukhov, A. S., Gorokhov, E. B., Azarov, I. A. & Latyshev, A. V., 1 дек. 2018, в: Semiconductors. 52, 16, стр. 2081-2084 4 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  5. Atomic and electronic structures of the native defects responsible for the resistive effect in HfO2: ab initio simulations

    Perevalov, T. V. & Islamov, D. R., 15 авг. 2019, в: Microelectronic Engineering. 216, 5 стр., 111038.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  6. Atomic and Electronic Structures of Intrinsic Defects in Ta2O5: Ab Initio Simulation

    Perevalov, T. V., Islamov, D. R. & Chernykh, I. G., 1 июн. 2018, в: JETP Letters. 107, 12, стр. 761-765 5 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  7. Atomic and electronic structure of oxygen polyvacancies in ZrO2

    Perevalov, T. V. & Islamov, D. R., 25 июн. 2017, в: Microelectronic Engineering. 178, стр. 275-278 4 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  8. Atomic and Electronic Structure of Defect Ni Complexes and Oxygen Vacancies in HfO2 and Their Influence on Charge Transport in Memristors

    Perevalov, T. V., Islamov, D. R. & Chernov, A. A., сент. 2025, в: Journal of Experimental and Theoretical Physics. 141, 1-3, стр. 113-119 7 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  9. Asymmetry of anticrossing between atomic steps on metal and semiconductor surfaces

    Khoroshilov, V. S., Kazantsev, D. M., Alperovich, V. L., Coupeau, C. & Drouet, M., 28 мар. 2022, в: Journal of Physics: Conference Series. 2227, 1, 012008.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатья по материалам конференцииРецензирование

  10. A Study of the Crystal Structure of Co40Fe40B20 Epitaxial Films on a Bi2Te3 Topological Insulator

    Kaveev, A. K., Suturin, S. M., Sokolov, N. S., Kokh, K. A. & Tereshchenko, O. E., 1 мар. 2018, в: Technical Physics Letters. 44, 3, стр. 184-186 3 стр.

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

ID: 3084764