Optical Properties of the SiO x (x < 2) Thin Films Obtained by Hydrogen Plasma Processing of Thermal Silicon Dioxide › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S0030400X20100173
Конечная издательская версия

V. N. Kruchinin
T. V. Perevalov
V. Sh Aliev
R. M.Kh Iskhakzai
E. V. Spesivtsev
V. A. Gritsenko
V. A. Pustovarov

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	1577-1582
Число страниц	6
Журнал	Optics and Spectroscopy
Том	128
Номер выпуска	10
DOI	https://doi.org/10.1134/S0030400X20100173
Состояние	Опубликовано - 1 окт. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 26004474