Indium-Induced Crystallization of Thin Films of Amorphous Silicon Suboxide › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S1063785020060280
Конечная издательская версия

A. O. Zamchiy
E. A. Baranov
I. E. Merkulova
N. A. Lunev
V. A. Volodin
E. A. Maksimovskii

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	583-586
Число страниц	4
Журнал	Technical Physics Letters
Том	46
Номер выпуска	6
DOI	https://doi.org/10.1134/S1063785020060280
Состояние	Опубликовано - 1 июн. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 24831256