Formation of Germanium Nanocrystals and Amorphous Nanoclusters in GeO[SiO] and GeO[SiO2] Films Using Electron Beam Annealing › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S1063784224030162
Конечная издательская версия

V. O. Konstantinov
E. A. Baranov
Zhang Fan
V. G. Shchukin
A. O. Zamchiy
V. A. Volodin

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	898-905
Число страниц	8
Журнал	Technical Physics
Том	69
Номер выпуска	4
DOI	https://doi.org/10.1134/S1063784224030162
Состояние	Опубликовано - 18 сент. 2024

Предметные области OECD FOS+WOS

1.03.UB ФИЗИКА, ПРИКЛАДНАЯ

ID: 61204213