Enhanced InAs phase formation in the In+- and As+-implanted SiO2 films covered with Si3N4 layers › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.matlet.2023.134041
Конечная издательская версия

Ida Tyschenko
Zhongbin Si
Vladimir Volodin
Svetlana Cherkova
Vladimir Popov

Язык оригинала	английский
Номер статьи	134041
Журнал	Materials Letters
Том	338
DOI	https://doi.org/10.1016/j.matlet.2023.134041
Состояние	Опубликовано - 1 мая 2023

Предметные области OECD FOS+WOS

2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ
1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ
2.03 МЕХАНИКА И МАШИНОСТРОЕНИЕ

ID: 49083476