DOI

Язык оригиналарусский
Номер статьи127873
ЖурналJournal of Crystal Growth
Том647
Номер выпуска127873
DOI
СостояниеОпубликовано - 26 авг. 2024
Опубликовано для внешнего пользованияДа

    Предметные области OECD FOS+WOS

    Области исследований

  • A1. Growth models, A1. Nucleation, A1. Surface processes, A3. Molecular beam epitaxy, B2. Semiconducting germanium, B2. Semiconducting silicon

ID: 60779026