Кафедра общей физики ФФ

Контактное лицо

Результаты исследований

  1. Al2O3/InGaAs interface passivation by fluorine-containing anodic layers

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  2. Searching Optimal Growth Parameters for HfO Applied by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Method

    Результаты исследований: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференцийстатья в сборнике материалов конференциинаучнаяРецензирование

  3. Features of MIS Structures Based on Insulating PbSnTe:In Films with the Composition in the Vicinity of the Band Inversion Related to Their Ferroelectric Properties

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

Просмотреть все (7) »

ID: 3441760