DOI

Язык оригиналаанглийский
Страницы (с-по)1223-1235
Число страниц13
ЖурналPlasma Chemistry and Plasma Processing
Том42
Номер выпуска6
Дата раннего онлайн-доступа21 сент. 2022
DOI
СостояниеОпубликовано - нояб. 2022

    Предметные области OECD FOS+WOS

  • 1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ
  • 2.04 ХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ
  • 1.04 ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
  • 2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ

ID: 37865532