Radiation-Induced epitaxial CaSi2 film growth at the molecular-beam epitaxy of CaF2 on Si › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.matlet.2020.127554
Конечная издательская версия

Aleksey V. Kacyuba
Anatoly V. Dvurechenskii
Gennady N. Kamaev
Vladimir A. Volodin
Aleksey Y. Krupin

Язык оригинала	английский
Номер статьи	127554
Число страниц	4
Журнал	Materials Letters
Том	268
DOI	https://doi.org/10.1016/j.matlet.2020.127554
Состояние	Опубликовано - 1 июн. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ
2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ

ID: 23665848