Local monitoring of atomic steps on GaAs(001) surface under oxidation, wet removal of oxides and thermal smoothing › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.02.062
Конечная издательская версия

I. O. Akhundov
D. M. Kazantsev
V. L. Alperovich
D. V. Sheglov
A. S. Kozhukhov
A. V. Latyshev

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	307-311
Число страниц	5
Журнал	Applied Surface Science
Том	406
DOI	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.02.062
Состояние	Опубликовано - 1 июн. 2017

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 10278327