Laser annealing of epitaxial CaF2 films on Si › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138898
Конечная издательская версия

A. V. Dvurechenskii
Zh V. Smagina
V. A. Volodin
A. V. Kacyuba
V. A. Zinovyev
G. D. Ivlev
S. L. Prakopyeu

Язык оригинала	английский
Номер статьи	138898
Журнал	Thin Solid Films
Том	735
DOI	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138898
Состояние	Опубликовано - 1 окт. 2021

Предметные области OECD FOS+WOS

2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ
1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ

ID: 34082905