Influence of Current Density on the Structure of Amorphous Silicon Suboxide Thin Films Under Electron-Beam Annealing

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	778-783
Число страниц	6
Журнал	Journal of Applied Mechanics and Technical Physics
Том	64
Номер выпуска	5
DOI	https://doi.org/10.1134/S0021894423050061
Состояние	Опубликовано - окт. 2023

electron beam annealing, electron beam current density, nanocrystalline silicon, non-stoichiometric silicon oxide

ID: 59547634