In situ reflection electron microscopy for the surface processes analysis during sublimation and epitaxial growth of layered metal chalcogenides › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.3897/j.moem.10.4.144317
Конечная издательская версия

Sergei A. Ponomarev
Dmitry I. Rogilo
Konstantin E. Zakhozhev
Dmitry A. Nasimov
Nina N. Kurus
Anton K. Gutakovskii
Konstantin A. Kokh
Alexander G. Milekhin
Dmitry V. Sheglov
Alexander V. Latyshev

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	251-261
Число страниц	11
Журнал	Modern Electronic Materials
Том	10
Номер выпуска	4
DOI	https://doi.org/10.3897/j.moem.10.4.144317
Состояние	Опубликовано - 2024

Предметные области OECD FOS+WOS

2.02 ЭЛЕКТРОТЕХНИКА, ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА, ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
2.10 НАНОТЕХНОЛОГИЯ
2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ

Области исследований

in situ reflection electron, metal chalcogenides, microscopy, surface

ID: 64903984