Hydrogen radical enhanced atomic layer deposition of TaOx › Обзор исследований

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	9667-9674
Число страниц	8
Журнал	Journal of Materials Chemistry C
Том	6
Номер выпуска	36
DOI	https://doi.org/10.1039/c8tc00679b
Состояние	Опубликовано - 28 сент. 2018

ID: 16703541

Hydrogen radical enhanced atomic layer deposition of TaOx: saturation studies and methods for oxygen deficiency control