Growth of Silicene by Molecular Beam Epitaxy on CaF2/Si(111) Substrates Modified by Electron Irradiation › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S0021364024600599
Конечная издательская версия

A. F. Zinovieva
V. A. Zinovyev
A. V. Katsyuba
V. A. Volodin
V. I. Muratov
A. V. Dvurechenskii

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	703-707
Число страниц	5
Журнал	JETP Letters
Том	119
Номер выпуска	9
DOI	https://doi.org/10.1134/S0021364024600599
Состояние	Опубликовано - мая 2024

Предметные области OECD FOS+WOS

1.03.UH ФИЗИКА, АТОМНАЯ, МОЛЕКУЛЯРНАЯ И ХИМИЧЕСКАЯ

ID: 61123510