Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
| Переведенное название | Диффузия германия из захороненного слоя SiO2 и формирование фазы SiGe |
|---|---|
| Язык оригинала | английский |
| Страницы (с-по) | 215-222 |
| Число страниц | 8 |
| Журнал | Semiconductors |
| Том | 56 |
| Номер выпуска | 3 |
| DOI | |
| Состояние | Опубликовано - мар. 2022 |
ID: 36166941