Crystallization of Amorphous Germanium Films and Multilayer a-Ge/a-Si Structures upon Exposure to Nanosecond Laser Radiation › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S1063782619030217
Конечная издательская версия

V. A. Volodin
G. K. Krivyakin
G. D. Ivlev
S. L. Prokopyev
S. V. Gusakova
A. A. Popov

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	400-405
Число страниц	6
Журнал	Semiconductors
Том	53
Номер выпуска	3
DOI	https://doi.org/10.1134/S1063782619030217
Состояние	Опубликовано - 1 мар. 2019

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 20050137