Atomic and electronic structure of ferroelectric La-doped HfO2 films › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1088/2053-1591/aaf436
Конечная издательская версия

T. V. Perevalov
A. K. Gutakovskii
V. N. Kruchinin
V. A. Gritsenko
I. P. Prosvirin

Язык оригинала	английский
Номер статьи	036403
Число страниц	7
Журнал	Materials Research Express
Том	6
Номер выпуска	3
DOI	https://doi.org/10.1088/2053-1591/aaf436
Состояние	Опубликовано - 1 мар. 2019

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 18064191