Standard

Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7. / Романюк, Константин Николаевич (Author); Шкляев, Александр Андреевич (Author).

Новосибирский государственный университет. Patent No.: 6. Nov 25, 2011.

Research output: Patent › Know-how registration

Harvard

Романюк, КН & Шкляев, АА Nov. 25 2011, Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7, Patent No. 6.

APA

Романюк, К. Н., & Шкляев, А. А. (2011). Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7. (Patent No. 6). Новосибирский государственный университет.

Vancouver

Романюк КН, Шкляев АА, inventors. Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7. 6. 2011 Nov 25.

Author

Романюк, Константин Николаевич (Author) ; Шкляев, Александр Андреевич (Author). / Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7. Новосибирский государственный университет. Patent No.: 6. Nov 25, 2011.

BibTeX

@misc{2522b9bb67bd4ea68f37ac039b156c83,
title = "Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7",
author = "Романюк, {Константин Николаевич} and Шкляев, {Александр Андреевич}",
year = "2011",
month = nov,
day = "25",
language = "русский",
publisher = "Новосибирский государственный университет",
address = "Российская Федерация",
type = "Patent",
note = "6",

}

RIS

TY - PAT

T1 - Технология получения высокоупорядоченной ступенчатой поверхности Si (111) -7x7

AU - Романюк, Константин Николаевич

AU - Шкляев, Александр Андреевич

PY - 2011/11/25

Y1 - 2011/11/25

M3 - свидетельство о регистрации ноу-хау

M1 - 6

PB - Новосибирский государственный университет

ER -

ID: 27071979