Real-time observation of self-interstitial reactions on an atomically smooth silicon surface › Обзор исследований

Исследовательский портал НГУ

Real-time observation of self-interstitial reactions on an atomically smooth silicon surface

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Кафедра физики полупроводников ФФ

DOI

https://doi.org/10.1016/j.susc.2019.04.008
Конечная издательская версия

S. Kosolobov
G. Nazarikov
S. Sitnikov
I. Pshenichnyuk
L. Fedina
A. Latyshev

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	25-33
Число страниц	9
Журнал	Surface Science
Том	687
DOI	https://doi.org/10.1016/j.susc.2019.04.008
Состояние	Опубликовано - 1 сент. 2019

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 20045640