Microwave Photoresistance of a Two-Dimensional Topological Insulator in a HgTe Quantum Well › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1134/S0021364020020113
Конечная издательская версия

A. S. Yaroshevich
Z. D. Kvon
G. M. Gusev
N. N. Mikhailov

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	121-125
Число страниц	5
Журнал	JETP Letters
Том	111
Номер выпуска	2
DOI	https://doi.org/10.1134/S0021364020020113
Состояние	Опубликовано - янв. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 24012787