High-performance top-gate thin-film transistor with an ultra-thin channel layer › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.3390/nano10112145
Конечная издательская версия

Te Jui Yen
Albert Chin
Vladimir Gritsenko

Язык оригинала	английский
Номер статьи	2145
Страницы (с-по)	1-8
Число страниц	8
Журнал	Nanomaterials
Том	10
Номер выпуска	11
DOI	https://doi.org/10.3390/nano10112145
Состояние	Опубликовано - нояб. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 26004575