Electromigration effect on the surface morphology during the Ge deposition on Si(1 1 1) at high temperatures › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.09.119
Конечная издательская версия

Язык оригинала	английский
Страницы (с-по)	10-14
Число страниц	5
Журнал	Applied Surface Science
Том	465
DOI	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.09.119
Состояние	Опубликовано - 28 янв. 2019

Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 16632320