Effect of deposition conditions on the thermal stability of Ge layers on SiO2 and their dewetting behavior › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137681
Конечная издательская версия

C. Dabard
A. A. Shklyaev
V. A. Armbrister
A. L. Aseev

Язык оригинала	английский
Номер статьи	137681
Число страниц	7
Журнал	Thin Solid Films
Том	693
DOI	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137681
Состояние	Опубликовано - 1 янв. 2020

Предметные области OECD FOS+WOS

2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ

ID: 22427013