Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
Механизм транспорта заряда в МДП-структурах ITO/[GeOx](z)[SiO2](1-z)/n+-Si. / Юшков, Иван Дмитриевич; Гисматулин, Андрей Андреевич; Камаев, Геннадий Николаевич и др.
в: Физика и техника полупроводников, Том 59, № 6, 10, 2025, стр. 364-370.Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
}
TY - JOUR
T1 - Механизм транспорта заряда в МДП-структурах ITO/[GeOx](z)[SiO2](1-z)/n+-Si
AU - Юшков, Иван Дмитриевич
AU - Гисматулин, Андрей Андреевич
AU - Камаев, Геннадий Николаевич
AU - Vergnat, M.
AU - Володин, Владимир Алексеевич
N1 - Механизм транспорта заряда в МДП-структурах ITO/[GeOx](z)[SiO2](1-z)/n+-Si / И.Д. Юшков, А.А. Гисматулин, Г.Н. Камаев [и др.] // Физика и техника полупроводников. – 2025. – Т. 59. - № 6. – С. 364-370. – DOI 10.61011/FTP.2025.06.61573.8396. – EDN UZCCQX. В части изучения структурных и оптических свойств работа выполнена в рамках государственного задания (ИФП СО РАН N FWGW-2025-0023). В части электрофизических исследований работа выполнена при финансовой поддержке Министерства науки и высшего образования Российской Федерации (грант N "FSUS-2024-0020").
PY - 2025
Y1 - 2025
N2 - Исследован механизм транспорта заряда в структурах металл—диэлектрик—полупроводник (МДП) ITO/[GeOx](z)[SiO2](1-z) (0.25≤ z≤1)/n+-Si с пленками германосиликатного стекла, полученными путем испарения электронным пучком порошков оксида германия и оксида кремния в вакууме. Верхний контакт ITO наносился на поверхность диэлектрического слоя методом магнетронного распыления. По данным ИК спектроскопии, в пленках состава [GeOx](z)[SiO2](1-z) (0.25≤ z≤0.75) присутствуют связи Ge-O, Si-O и Ge-O-Si. Экспериментальные вольт-амперные характеристики, измеренные при различных температурах, аппроксимированы с использованием как контактно-ограниченных, так и объемно-ограниченных моделей транспорта заряда в диэлектрике. Установлено, что механизм проводимости наиболее адекватно описывается моделью тока, ограниченного пространственным зарядом. Определены параметры ловушек в диэлектрике в рамках данной модели.
AB - Исследован механизм транспорта заряда в структурах металл—диэлектрик—полупроводник (МДП) ITO/[GeOx](z)[SiO2](1-z) (0.25≤ z≤1)/n+-Si с пленками германосиликатного стекла, полученными путем испарения электронным пучком порошков оксида германия и оксида кремния в вакууме. Верхний контакт ITO наносился на поверхность диэлектрического слоя методом магнетронного распыления. По данным ИК спектроскопии, в пленках состава [GeOx](z)[SiO2](1-z) (0.25≤ z≤0.75) присутствуют связи Ge-O, Si-O и Ge-O-Si. Экспериментальные вольт-амперные характеристики, измеренные при различных температурах, аппроксимированы с использованием как контактно-ограниченных, так и объемно-ограниченных моделей транспорта заряда в диэлектрике. Установлено, что механизм проводимости наиболее адекватно описывается моделью тока, ограниченного пространственным зарядом. Определены параметры ловушек в диэлектрике в рамках данной модели.
KW - MIS STRUCTURE
KW - CHARGE TRANSPORT
KW - INFRARED SPECTROSCOPY
UR - https://www.elibrary.ru/item.asp?id=87616530
U2 - 10.61011/FTP.2025.06.61573.8396
DO - 10.61011/FTP.2025.06.61573.8396
M3 - статья
VL - 59
SP - 364
EP - 370
JO - Физика и техника полупроводников
JF - Физика и техника полупроводников
SN - 0015-3222
IS - 6
M1 - 10
ER -
ID: 74352386