Standard

Методика оперативного контроля ориентации кристаллографических осей в оптически прозрачных кристаллических образцах. / Коробейщиков, Николай Геннадьевич (автор); Горчаков, Александр Всеволодович (автор); Николаев, Иван Владимирович (автор).

Новосибирский государственный университет. Номер патента: 26. нояб. 14, 2018.

Результаты исследований: Патенты/Свидетельства о регистрациисвидетельство о регистрации ноу-хау

Harvard

APA

Vancouver

Author

BibTeX

@misc{94f3e95d463b4c20a860fd7bc950c755,
title = "Методика оперативного контроля ориентации кристаллографических осей в оптически прозрачных кристаллических образцах",
abstract = "Описываемая методика является разновидностью оптической рефлектометрии и основана на определении угла Брюстера при различной ориентации падающего на поверхность прозрачных кристаллических материалов лазерного излучения. Для проведения измерений не требуется сложное измерительное оборудование или длительное время измерений. Тем самым методика позволяет оперативно определять (контролировать) расположение основных кристаллографических осей в полированных образцах различных оптических кристаллов.",
keywords = "ОПТИЧЕСКИЙ КРИСТАЛЛ, КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКАЯ ОСЬ, УГОЛ БРЮСТЕРА",
author = "Коробейщиков, {Николай Геннадьевич} and Горчаков, {Александр Всеволодович} and Николаев, {Иван Владимирович}",
year = "2018",
month = nov,
day = "14",
language = "русский",
publisher = "Новосибирский государственный университет",
address = "Российская Федерация",
type = "Patent",
note = "26",

}

RIS

TY - PAT

T1 - Методика оперативного контроля ориентации кристаллографических осей в оптически прозрачных кристаллических образцах

AU - Коробейщиков, Николай Геннадьевич

AU - Горчаков, Александр Всеволодович

AU - Николаев, Иван Владимирович

PY - 2018/11/14

Y1 - 2018/11/14

N2 - Описываемая методика является разновидностью оптической рефлектометрии и основана на определении угла Брюстера при различной ориентации падающего на поверхность прозрачных кристаллических материалов лазерного излучения. Для проведения измерений не требуется сложное измерительное оборудование или длительное время измерений. Тем самым методика позволяет оперативно определять (контролировать) расположение основных кристаллографических осей в полированных образцах различных оптических кристаллов.

AB - Описываемая методика является разновидностью оптической рефлектометрии и основана на определении угла Брюстера при различной ориентации падающего на поверхность прозрачных кристаллических материалов лазерного излучения. Для проведения измерений не требуется сложное измерительное оборудование или длительное время измерений. Тем самым методика позволяет оперативно определять (контролировать) расположение основных кристаллографических осей в полированных образцах различных оптических кристаллов.

KW - ОПТИЧЕСКИЙ КРИСТАЛЛ

KW - КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКАЯ ОСЬ

KW - УГОЛ БРЮСТЕРА

M3 - свидетельство о регистрации ноу-хау

M1 - 26

PB - Новосибирский государственный университет

ER -

ID: 23260984