Determining the Depth of Penetration of the THz Surface Plasmon Polariton Field into Air by the Shielding Technique

Kukotenko, V. D., Gerasimov, V. V., Vanda, V. S., Lemzyakov, A. G., Azarov, I. A. & Nikitin, A., дек. 2025, в: Plasmonics. 20, 12, стр. 11461-11469 9 стр., 1.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Determination of the infrared absorption cross-section of the stretching vibrations of Ge–O bonds in GeO_x films

Zhang, F., Volodin, V. A., Astankova, K. N., Kamaev, G. N., Azarov, I. A., Prosvirin, I. P. & Vergnat, M., янв. 2022, в: Results in Chemistry. 4, 100461.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Characterization of Structure, Morphology, Optical and Electrical Properties of AlN–Al–V Multilayer Thin Films Fabricated by Reactive DC Magnetron Sputtering

Миронова, М. И., Капишников, А. В., Хамуд, Г., Володин, В. А., Азаров, И. А., Юшков, И. Д., Камаев, Г. Н., Супрун, Е., Chirikov, N., Davletkildeev, N. A., Baidakov, A. N., Kovivchak, V. S., Baranova, L. V., Струнин, В. И. & Гейдт, П. В., февр. 2023, в: Coatings. 13, 2, 223.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Atomic Force Microscopy Local Oxidation of GeO Thin Films

Astankova, K. N., Kozhukhov, A. S., Gorokhov, E. B., Azarov, I. A. & Latyshev, A. V., 1 дек. 2018, в: Semiconductors. 52, 16, стр. 2081-2084 4 стр.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Application of noncontact terahertz surface plasmon interferometry for determination of optical constants of thin tetraaminodiphenyl films

Gerasimov, V. V., Vanda, V. S., Lemzyakov, A. G., Azarov, I. A., Nikolaev, N. A., Stepanov, V. A., Fromichev, D. V. & Nikitin, A. K., нояб. 2026, в: Optics and Lasers in Engineering. 206, 13 стр.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

1.534 µm Er electroluminescence in the RF magnetron deposited In₂O₃ : Er films on a Si substrate

Feklistov, K. V., Lemzyakov, A. G., Abramkin, D. S., Svit, K. A., Pugachev, A. M., Volodin, V. A., Marin, D. V., Spesivsev, E. V., Azarov, I. A., Safronov, L. N., Kochubey, S. A., Ershov, K. S., Kapishnikov, A. V., Shmakov, A. N., Shklyaev, A. A. & Zhivodkov, Y. A., 30 июн. 2026, в: Modern Electronic Materials. 12, 2, стр. 95-102 8 стр.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование