Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
Фотолюминесценция в видимом спектральном диапазоне плёнок SIO2 имплантированных ионами IN+ и AS+. / ТЫСЧЕНКО, И.Е.; СЫ, Ч.; ЧЕРКОВА, С.Г. et al.
In: Автометрия, Vol. 60, No. 1, 2024, p. 59-65.Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
}
TY - JOUR
T1 - Фотолюминесценция в видимом спектральном диапазоне плёнок SIO2 имплантированных ионами IN+ и AS+
AU - ТЫСЧЕНКО, И.Е.
AU - СЫ, Ч.
AU - ЧЕРКОВА, С.Г.
AU - ПОПОВ, В.П.
N1 - Фотолюминесценция в видимом спектральном диапазоне плёнок SiO2, имплантированных ионами In+ и As+ / И. Е. Тысченко, Ч. Сы, С. Г. Черкова, В. П. Попов // Автометрия. – 2024. – Т. 60, № 1. – С. 59-65. – DOI 10.15372/AUT20240106. Работа выполнена при поддержке Министерства образования и науки Российской Федерации (проект FWGW-2021-0003).
PY - 2024
Y1 - 2024
N2 - Исследована фотолюминесценция в видимом спектральном диапазоне при комнатной температуре плёнок SiO2, имплантированных ионами In+ и As+ в зависимости от энергии ионов As+, температуры последующего отжига и длины волны возбуждающего излучения. Использовались ионы As+ с энергиями 40, 80 или 135 кэВ и ионы In+ с энергией 50 кэВ, при которых соотношение средних проективных пробегов ионов RpAs/RpIn составляло 1, 2 или 3 соответственно. Последующий отжиг проводился при температуре 900 и 1100 °C. Спектры фотолюминесценции возбуждались излучением лазера с длинами волн λ ex = 442 и 473 нм. В спектрах фотолюминесценции при возбуждении с λ ex = 473 нм наблюдался пик 550 нм, энергетическое положение которого смещалось к 520-530 нм при λ ex = 442 нм. Увеличение соотношения RpAs/RpIn сопровождалось уменьшением интенсивности фотолюминесценции, а также изменением соотношения интенсивности пиков в зависимости от температуры отжига. Наблюдаемый эффект обсуждается с точки зрения рекомбинации электронов и дырок в нанокристаллах InAs.
AB - Исследована фотолюминесценция в видимом спектральном диапазоне при комнатной температуре плёнок SiO2, имплантированных ионами In+ и As+ в зависимости от энергии ионов As+, температуры последующего отжига и длины волны возбуждающего излучения. Использовались ионы As+ с энергиями 40, 80 или 135 кэВ и ионы In+ с энергией 50 кэВ, при которых соотношение средних проективных пробегов ионов RpAs/RpIn составляло 1, 2 или 3 соответственно. Последующий отжиг проводился при температуре 900 и 1100 °C. Спектры фотолюминесценции возбуждались излучением лазера с длинами волн λ ex = 442 и 473 нм. В спектрах фотолюминесценции при возбуждении с λ ex = 473 нм наблюдался пик 550 нм, энергетическое положение которого смещалось к 520-530 нм при λ ex = 442 нм. Увеличение соотношения RpAs/RpIn сопровождалось уменьшением интенсивности фотолюминесценции, а также изменением соотношения интенсивности пиков в зависимости от температуры отжига. Наблюдаемый эффект обсуждается с точки зрения рекомбинации электронов и дырок в нанокристаллах InAs.
KW - Ионная имплантация
KW - SIO2
KW - INAS
KW - Нанокристаллы
KW - фотолюминесценция
UR - https://www.mendeley.com/catalogue/c16b46c4-7dda-34a3-b743-1ad0186e5e4e/
UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=62736737
U2 - 10.15372/aut20240106
DO - 10.15372/aut20240106
M3 - статья
VL - 60
SP - 59
EP - 65
JO - Автометрия
JF - Автометрия
SN - 0320-7102
IS - 1
ER -
ID: 71985988