DOI

  • Lei Li
  • Ivan Da Silva
  • Xue Han
  • Jiangnan Li
  • Gemma Smith
  • Yongqiang Cheng
  • Luke L. Daemen
  • Christopher G. Morris
  • Harry G.W. Godfrey
  • Nicholas M. Jacques
  • Xinran Zhang
  • Pascal Manuel
  • Mark D. Frogley
  • Claire A. Murray
  • Anibal J. Ramirez-Cuesta
  • Gianfelice Cinque
  • Chiu C. Tang
  • Sihai Yang
  • Martin Schroder
Язык оригиналаанглийский
Страницы (с-по)1472-1482
Число страниц11
ЖурналChemical Science
Том10
Номер выпуска5
DOI
СостояниеОпубликовано - 7 февр. 2019

    Предметные области OECD FOS+WOS

ID: 18487529