DOI

Язык оригиналаанглийский
Страницы (с-по)247-265
Число страниц19
ЖурналPlasma Chemistry and Plasma Processing
Том42
Номер выпуска1
DOI
СостояниеОпубликовано - янв. 2022

    Предметные области OECD FOS+WOS

  • 1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ
  • 2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ
  • 2.04 ХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ

ID: 34604363