Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
Фотолюминесценция гетероструктур Ge/Si с квантовыми точками, созданными в процессе эпитаксии из ионно-молекулярных пучков. / Смагина, Жанна; Зиновьев, Владимир ; Мудрый, А. В. и др.
в: Физика и техника полупроводников, 2025, стр. 55-59.Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
}
TY - JOUR
T1 - Фотолюминесценция гетероструктур Ge/Si с квантовыми точками, созданными в процессе эпитаксии из ионно-молекулярных пучков
AU - Смагина, Жанна
AU - Зиновьев, Владимир
AU - Мудрый, А. В.
AU - Бородавченко, О. М.
AU - Баженов, Александр Олегович
AU - Двуреченский, Анатолий Васильевич
AU - Живулько, В. Д.
N1 - Фотолюминесценция гетероструктур Ge/Si с квантовыми точками, созданными в процессе эпитаксии из ионно-молекулярных пучков / Ж. В. Смагина, В. А. Зиновьев, А. В. Мудрый [и др.] // Физика и техника полупроводников. – 2025. – Т. 59, № 2. – С. 55-59. – DOI 10.61011/FTP.2025.02.60977.7726. – EDN JLCHQM. Работа выполнена при финансовой поддержке РНФ (грант N 25-22-00424).
PY - 2025
Y1 - 2025
N2 - Проведен сравнительный анализ структурных и люминесцентных характеристик наноструктур с квантовыми точками, созданными в процессе эпитаксии Ge на Si(100) в условиях облучения ионами Ge+ с энергией ~ 2 кэВ и без него. Установлено, что облучение ионами Ge+ в процессе гетероэпитаксии способствует увеличению интенсивности фотолюминесценции в 3 раза по сравнению со структурами, созданными без ионного облучения. Для облученных образцов обнаружено смещение максимума полосы фотолюминесценции GeSi квантовых точек на ~ 25 мэВ в низкоэнергетическую область. На основе анализа температурных зависимостей спектров фотолюминесценции в диапазоне 5-300 K определены энергии активации температурного гашения фотолюминесценции квантовых точек.
AB - Проведен сравнительный анализ структурных и люминесцентных характеристик наноструктур с квантовыми точками, созданными в процессе эпитаксии Ge на Si(100) в условиях облучения ионами Ge+ с энергией ~ 2 кэВ и без него. Установлено, что облучение ионами Ge+ в процессе гетероэпитаксии способствует увеличению интенсивности фотолюминесценции в 3 раза по сравнению со структурами, созданными без ионного облучения. Для облученных образцов обнаружено смещение максимума полосы фотолюминесценции GeSi квантовых точек на ~ 25 мэВ в низкоэнергетическую область. На основе анализа температурных зависимостей спектров фотолюминесценции в диапазоне 5-300 K определены энергии активации температурного гашения фотолюминесценции квантовых точек.
KW - GESI КВАНТОВЫЕ ТОЧКИ
KW - ЭПИТАКСИЯ
KW - ИОННОЕ ОБЛУЧЕНИЕ
KW - ФОТОЛЮМИНЕСЦЕНЦИЯ
UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=83896411
U2 - 10.61011/FTP.2025.02.60977.7726
DO - 10.61011/FTP.2025.02.60977.7726
M3 - статья
SP - 55
EP - 59
JO - Физика и техника полупроводников
JF - Физика и техника полупроводников
SN - 0015-3222
ER -
ID: 74616275