Sun, 01 Jan 2023 00:00:00 GMT

Electron and hole injection barriers between silicon substrate and RF magnetron sputtered In2O3 : Er films
Feklistov, K. V., Lemzyakov, A. G., Shklyaev, A. A., Protasov, D. Y., Deryabin, A. S., Spesivsev, E. V., Gulyaev, D. V., Pugachev, A. M. & Esaev, D. G., 2023, в: Modern Electronic Materials. 9, 2, стр. 57-68 12 стр.
Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Язык оригинала | английский
Страницы (с-по) | 57-68
Число страниц | 12
Журнал | Modern Electronic Materials
Том | 9
Номер выпуска | 2
DOI | https://doi.org/10.3897/j.moem.9.2.109980